優(yōu)??? 點

?清洗系統(tǒng)應(yīng)用于各種清洗和干燥工藝

> 不同配置（可放置臺面操作的設(shè)備、單臺獨立、雙腔）

> 適用于晶圓尺寸至200mm

> 最佳的占地，設(shè)備帶有滾輪可移動

> 優(yōu)越的可靠性

> 獨特的模塊化結(jié)構(gòu)

> 極其便于維修

> 易于使用和操作

一般特征

?適用于晶圓直徑至200mm

> 25片晶圓單盒工藝

> 標(biāo)準(zhǔn)的高邊和低邊花籃

> 可選內(nèi)置電阻率檢測傳感器來控制晶圓的清洗工藝

> 用冷或熱的N2輔助晶圓干燥

> 離心頭容易更換

?

圖形化的界面：

> 基于PLC的彩色5.7“的觸摸屏

> 可以編輯10多個菜單，每個菜單可有10步

> 多等級用戶密

?

?去靜電裝置安裝于工藝腔室區(qū)

> 去離子水回收

> 電阻率監(jiān)測裝置

> 機械手自動加載

> 可放置臺面操作的設(shè)備、單臺獨立、雙腔

> SECS/GEM

> 去離子水加熱系統(tǒng)

> 底座置放不銹鋼滾輪

> 溶劑滅火裝置

> 適用特殊設(shè)計的花籃

設(shè)備制造商

華林科納（江蘇）半導(dǎo)體設(shè)備有限公司 m.j4i44.cn?0513-87733829；