掃碼添加微信，獲取更多半導(dǎo)體相關(guān)資料

目的

該在線實(shí)驗(yàn)室的目的是演示和概述進(jìn)行接觸光刻所必需的程序。這些視頻將詳細(xì)介紹每一步光刻過程。

背景

光刻是在材料上定義圖案的關(guān)鍵奈米制造。光刻技術(shù)的進(jìn)步最終導(dǎo)致了我們今天看到的是電子設(shè)備的微型化。光刻是一種半導(dǎo)體制造業(yè)的核心要素;現(xiàn)代設(shè)備可以做到在完成之前，要經(jīng)過幾十次光刻過程。在光刻過程中，一種能量敏感的化學(xué)物質(zhì)，稱為光刻膠涂在樣品表面的。然后把這種光刻膠暴露在特定的能量下在材料內(nèi)部產(chǎn)生圖案的來源。當(dāng)這個(gè)過程涉及到光的時(shí)候能源，它叫光刻。在光刻中涉及的小特征尺寸要求極其干凈處理環(huán)境;這個(gè)實(shí)驗(yàn)室的視頻顯示了光刻的過程在一流的10級(jí)潔凈室進(jìn)行。為了進(jìn)行光刻工藝，需要各種各樣的設(shè)備。濕工作臺(tái)、熱板、旋轉(zhuǎn)鑄造臺(tái)和曝光工具都是必要的。的本實(shí)驗(yàn)室使用的曝光工具是Karl Suss MA6BA6。這個(gè)系統(tǒng)理論上是可打印特性小至~0.5μm。接觸的關(guān)鍵概念

光刻技術(shù)可分為電子束光刻技術(shù)和步進(jìn)光刻技術(shù)?？蓪?shí)現(xiàn)的最小特征尺寸最終由類型決定

采用光刻技術(shù)。

????????? ? ? ?

實(shí)驗(yàn):在這個(gè)練習(xí)中，特征將被畫在晶圓上光刻過程。閱讀下面的步驟并觀看剪輯每個(gè)階段的光刻過程，以回答天使的實(shí)驗(yàn)室問題。

......

本文還講了實(shí)驗(yàn)的過程，細(xì)節(jié)以及結(jié)論等

?

注意:此處包含的信息、建議和意見僅供參考，僅供您考慮，查詢和驗(yàn)證，不以任何方式 保證任何材料在特定下的的適用性。華林科納CSE對(duì)以任何形式、任何情況，任可應(yīng)用、測(cè)試或交流使用提供的數(shù)據(jù)不承擔(dān)任何法法律表任，此處包含的所有內(nèi)容不得解釋為在任何專利下運(yùn)營或侵如任何專利的 許可或授權(quán)。