本文主要介紹在鍍膜以前，快速清洗各種形狀和尺寸的單個基片的方法。

對表面的清洗基本上可以分成清洗和干燥兩個階段：清洗的目的是清除零件表面嚴重污染，如水汽、油污、微粒等，進一步清除零件表面殘留物；最后是對零件進行干燥。在清洗和干燥階段，需盡量避免對零件造成重新污染。

各種清洗方法介紹

基片的清潔度對薄膜性能有很大影響。在鍍膜以前，最理想的情況是使用剛拋光完的基片，否則基片表面會變質(zhì)。特別是當基片經(jīng)受了不正確處理和貯存后，其情況變得更加嚴重。但是，即使是對剛拋光完的基片來說，有時也會由于存在氧化篩拋光粉的污染而使這種基片在鍍膜以后在某些地方出現(xiàn)較大的散射。只有在拋光以后，立即清洗基片表面，并且在鍍膜以前再次清洗才能消除這種影響。

通常，只對基片重要表面進行拋光，共余表面，如基片邊綠部份保持研磨后狀態(tài)。清洗基片表面時，只需清洗基片拋光面就行了。清洗粗糙面的污染往往比較困難，有時會因為想清洗這些表面而影響到拋光面的清潔。

1.清洗

清洗方法的適用性取決于基片材料和基片原始表面狀態(tài)。通常是用一種陰離子介面活性劑的稀釋溶液來清洗基片表面。清洗時，用浸有這種溶液的脫脂棉輕輕擦洗基片表面。在清洗后，再將基片放在含有這種洗滌劑的稀釋溶液的超聲波槽里繼續(xù)進行清洗。1976年Mathewson介紹了先用全氯乙稀蒸汽脫脂，然后用堿性洗滌劑超聲波清洗的方法。

上述預(yù)清洗方法，雖然能為基片進一步清洗打下良好的基礎(chǔ)。但是處理不當也會對基片造成損傷。然而也有人發(fā)現(xiàn)，只要用超聲波清洗的時間不太長，對基片表面的損傷是可以忽略不計的。

2.干燥

在清洗結(jié)束后，接下來對基片進行干燥，在干燥過程中，需特別注意不要再污染基片。關(guān)于干燥方法，有人主張將基片從純水中取出后直接進行干燥，為了得到清潔、干燥的表面，人們還常用各種溶劑，如異丙醇、乙醇、丙酮和三氯乙烯等作蒸汽脫脂清洗。在光學薄膜工業(yè)中，常選用異丙醇。在基片清洗干凈以后，很難保證它們不再受灰塵污染。

文中提到的兩種清洗階段，華林科納所做的濕法設(shè)備均能滿足以上清洗要求，并且有豐富的經(jīng)驗和完善的方案措施，在解決清洗問題的同時，還能給顧客達到事半功倍的效果。

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