?濕刻蝕是通過化學刻蝕液和被刻蝕物質(zhì)之間的化學反應(yīng)將被刻蝕物質(zhì)剝離下來的刻蝕方法。大多數(shù)濕法刻蝕是不容易控制的各向同性刻蝕。

(1) 特點：適應(yīng)性強，表面均勻性好、對硅片損傷少，幾乎適用于所有的金屬、玻璃、塑料等材料。

(2) 缺點：圖形刻蝕保真想過不理想，刻蝕圖形的最小線難以掌控。

(3) 植入廣告！！該公司在這濕蝕刻方面比較優(yōu)越！?。。。√K州華林科納，成立于2008年3月，總投資4500萬元；目前已形成濕法清洗系統(tǒng)、刻蝕系統(tǒng)、CDS系統(tǒng)、尾氣處理系統(tǒng)的四大系列數(shù)十種型號的產(chǎn)品； 廣泛應(yīng)用于大規(guī)模集成電路電力電子器件、光電子器件、MEMS和太陽能電池等領(lǐng)域。

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干法刻蝕的刻蝕劑是等離子體，是利用等離子體和表面薄膜反應(yīng)，形成揮發(fā)性物質(zhì)，或直接轟擊薄膜表面使之被腐蝕的工藝。

(1) 特點：能實現(xiàn)各向異性刻蝕，從而保證細小圖形轉(zhuǎn)移后的保真性。

(2) 缺點：造價高。

?從所產(chǎn)生通道截面形狀分類，刻蝕又可分為兩類：各向同性刻蝕和各向異性刻蝕。

(1) 各向同性刻蝕：刻蝕劑從基片表面向下腐蝕的速率與在其他各方向大致相同，這種刻蝕成為各向同性刻蝕。例如含氫氟酸的溶液刻蝕玻璃和石英就是各向同性的。

(2) 各向異性刻蝕：刻蝕劑在某一方向的刻蝕速率遠大于其他方向時，就是各向異性刻蝕。例如用氫氧化鈉、氫氧化鉀等堿金屬的氫氧化物或季銨鹽刻蝕硅片時是各向異性的

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