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顯影清洗機(jī)CSE-華林科納（江蘇）
微機(jī)電系統(tǒng)（MEMS)是指用微機(jī)械加工技術(shù)制作的包括傳感器/微致動(dòng)器/微能源/等微機(jī)械基本部分以及高性能的電子集成線(xiàn)路組成的微機(jī)電器件與裝置。
其典型的生產(chǎn)工藝流程為：成膜工藝（氧化/CVD:LPCVD PECVD/PVD:濺射/電鍍/摻雜：擴(kuò)散 注入 退火）→光刻圖形（旋涂/光刻/顯影）→干法/濕法/ 刻蝕（濕法刻蝕/硅刻蝕/SiO?刻蝕/去膠清洗/金屬刻蝕/金屬剝離/RCA清洗）
設(shè)備概述
設(shè)備名稱(chēng)：顯影清洗機(jī)
整機(jī)尺寸：約1000mm(L) ×1260mm(W) ×1900mm(H)（具體尺寸根據(jù)實(shí)際圖紙確定）
主體構(gòu)造特點(diǎn)
設(shè)備包括 | 設(shè)備主體、電氣控制部分、顯影清洗槽等；并提供與廠(chǎng)務(wù)供電、供氣、供水、排廢水、排氣系統(tǒng)配套的接口等 |
主體 | 設(shè)備主體使用德國(guó)勞士林10mm瓷白PP |
骨架 | SUS304+PP德國(guó)勞士領(lǐng)板組合而成 |
安全門(mén) | 設(shè)備安裝高透明PVC上下推拉安全門(mén)，分隔與保護(hù)人員安全；邊緣處設(shè)備密封條 |
臺(tái)面 | 高度約900mm，適合高于1.5米人群操作 |
工藝槽 | 模組化設(shè)計(jì)，放置在同一個(gè)承漏底盤(pán)中。底盤(pán)采用滿(mǎn)焊接工藝加工而成，杜絕機(jī)臺(tái)的滲漏危險(xiǎn)。 |
管路系統(tǒng) | 位于設(shè)備下部，所有工藝槽、管路、閥門(mén)部分均有清晰的標(biāo)簽注明；藥液管路采用勞士林PP管，純水管路采用積水CL-PVC管，廢液可通過(guò)專(zhuān)用管道排放 |
電氣保護(hù) | 電器控制、氣路控制和工藝槽控制部份在機(jī)臺(tái)頂部電控區(qū)，電氣元件有充分的防護(hù)以免腐蝕以保障設(shè)備性能運(yùn)行穩(wěn)定可靠。 |
工作照明 | 上方防酸型照明220V 40W 可更換 |
水氣槍 | 機(jī)臺(tái)前部配備有PP純水槍和PP CDA槍各一只置左右兩側(cè)，水槍滴漏活水設(shè)計(jì)，方便操作員手工清洗槽體或工件 |
機(jī)臺(tái)支腳 | 有滑輪裝置及固定裝置并加防腐座，并且有高低調(diào)整及鎖定功能 |
安全保障 | 完善的報(bào)警和保護(hù)設(shè)計(jì)，排風(fēng)壓力、液位、排液均有硬件或軟件互鎖，直觀(guān)的操作界面，清晰的信息提示，保障了生產(chǎn)、工藝控制和安全性三色警示燈置于機(jī)臺(tái)上方明顯處 |
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