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外延片清洗機(jī)-CSE

發(fā)布時間： 2017 - 12 - 06

在LED外延及芯片制造領(lǐng)域，濕法設(shè)備占據(jù)約40%以上的工藝，隨著工藝技術(shù)的不斷發(fā)展，濕法設(shè)備已經(jīng)成為LED外延及芯片制造領(lǐng)域的關(guān)鍵設(shè)備，如SPM酸清洗、有機(jī)清洗、顯影、去膠、ITO蝕刻、BOE蝕刻、PSS高溫側(cè)腐、下蠟、勻膠、甩干、掩膜版清洗等。南通華林科納CSE深入研究LED生產(chǎn)工藝，現(xiàn)已形成可滿足LED產(chǎn)業(yè)化項(xiàng)目需求的全自動濕法工藝標(biāo)準(zhǔn)成套設(shè)備。 LED 芯片的制造工藝流程為：外延片→清洗→鍍透明電極層→透明電極圖形光刻→腐蝕→去膠→平臺圖形光刻→干法刻蝕→去膠→退火→SiO2 沉積→窗口圖形光刻→SiO2腐蝕→去膠→N極圖形光刻→預(yù)清洗→鍍膜→剝離→退火→P 極圖形光刻→鍍膜→剝離→研磨→切割→芯片→成品測試。 CSE-外延片清洗機(jī)設(shè)備設(shè)備名稱南通華林科納CSE-外延片清洗機(jī)設(shè)備可處理晶圓尺寸2”-12”可處理晶圓材料硅、砷化鎵、磷化銦、氮化鎵、碳化硅、鈮酸鋰、鉭酸鋰等應(yīng)用領(lǐng)域集成電路、聲表面波（SAW）器件、微波毫米波器件、MEMS器件、先進(jìn)封裝等專有技術(shù)系統(tǒng)潔凈性技術(shù)均勻性技術(shù)晶圓片N2干燥技術(shù)模塊化系統(tǒng)集成技術(shù)自動傳輸及精確控制技術(shù)溶液溫度、流量和壓力的精確控制技術(shù)主要技術(shù)特點(diǎn)系統(tǒng)結(jié)構(gòu)緊湊、安全腔體獨(dú)立密封，具有多種功能可實(shí)現(xiàn)晶圓干進(jìn)干出采用工控機(jī)控制，功能強(qiáng)大，操作簡便可根據(jù)用戶要求提供個性化解決方案設(shè)備制造商南通華林科納半導(dǎo)體設(shè)備有限公司 m.j4i44.cn 400-8768-096 ；18913575037更多的外延片清洗設(shè)備相關(guān)資訊可以關(guān)注華林科納CSE官網(wǎng)（m.j4i44.cn），現(xiàn)在熱線咨詢400-8768-096可立即獲取免費(fèi)的半導(dǎo)體行業(yè)相關(guān)清洗設(shè)備解決方案。

旋轉(zhuǎn)式噴鍍臺-CSE

發(fā)布時間： 2017 - 12 - 06

旋轉(zhuǎn)式噴鍍臺結(jié)合微組裝工藝對鍍制工藝的小批量、多規(guī)格和特殊應(yīng)用要求等特點(diǎn)，在6＂（150mm）晶圓電鍍系統(tǒng)中采用了傾斜式旋轉(zhuǎn)噴鍍技術(shù)傾斜式旋轉(zhuǎn)噴鍍單元分由兩個部分組成，一為陰極夾具、旋轉(zhuǎn)單元、導(dǎo)線電刷、Ｎ２保護(hù)單元組成的陰極回轉(zhuǎn)體，二為三角形槽體、陽極和電力線擋板組成的陽極腔。傾斜旋轉(zhuǎn)噴鍍結(jié)構(gòu)示意圖如下：從鍍制結(jié)構(gòu)方式、鍍制工藝應(yīng)用分析可以看出，采用傾斜式旋轉(zhuǎn)噴鍍有以下幾種優(yōu)勢。一是這種結(jié)構(gòu)方式易實(shí)現(xiàn)槽體密封和附加N2 保護(hù)功能。二是在這種鍍制工藝中，陰極的旋轉(zhuǎn)運(yùn)動使槽內(nèi)電場不均問題得以解決，從而提高了鍍制的均勻性。三是呈45°傾斜加陰極旋轉(zhuǎn)的方式，可以較容易的祛除晶圓表面的氣泡附著及“產(chǎn)生”氣泡的消除。四是采用了多微孔進(jìn)行鍍液噴射，實(shí)現(xiàn)攪拌功能，消除局部PH值、溫度、離子濃度等不均勻帶來的影響。五是采用三角形鍍槽設(shè)計(jì)最大限度的減少了鍍液的消耗。六是該鍍制結(jié)構(gòu)方式可以滿足多品種、小批量、低成本的生產(chǎn)需求。傾斜旋轉(zhuǎn)噴鍍技術(shù)、工藝優(yōu)勢斜式三角鍍槽結(jié)構(gòu)本系統(tǒng)采用傾斜式三角形鍍槽結(jié)構(gòu)，鍍槽入口溢流口均與三角形斜邊平行，可得到穩(wěn)定且不易積累氣泡的流場環(huán)境。通過進(jìn)行相關(guān)模擬、仿真和驗(yàn)證，鍍液入口采用扇形噴咀式結(jié)構(gòu)，可保證鍍液在平行于陰極表面方向上形成均勻而穩(wěn)定的流場。從而通過改變流場的方法改善了鍍層的均勻性。該結(jié)構(gòu)的另一優(yōu)點(diǎn)可使電鍍液的用量減至最少程度。南通華林科納CSE采用傾斜旋轉(zhuǎn)噴鍍方法進(jìn)行晶圓電鍍工藝處理，由于結(jié)構(gòu)上的特點(diǎn)，該方法經(jīng)實(shí)驗(yàn)驗(yàn)證具有：①結(jié)構(gòu)簡單；②工藝參數(shù)控制容易；③有利氣泡的消除；④鍍制均勻性得到提高；⑤鍍制溶液用量少。該方法尤其適應(yīng)于小批量、多規(guī)格的電鍍工藝，同時可以取得較好的鍍制均勻性。圖6為我們所研制的150mm晶圓傾斜旋轉(zhuǎn)噴鍍系統(tǒng)，目前已批量生產(chǎn)并在工藝線上得到較好的應(yīng)用，產(chǎn)品已通過技術(shù)定型鑒定和用戶驗(yàn)收。實(shí)現(xiàn)的主要工藝指標(biāo)：最大晶...

雙腔甩干機(jī)

發(fā)布時間： 2016 - 06 - 22

雙腔甩干機(jī)1. 應(yīng)用范圍:l 本機(jī)臺適用於半導(dǎo)體7”晶圓(含)以下之旋乾製程.l 設(shè)備為垂直式雙槽體機(jī)臺，可同Run 50~100片.l 可對旋乾步驟進(jìn)行可程式化控制 (Recipe Program).l 具使用在此設(shè)備已超過20年以上的應(yīng)用馬達(dá)控制系統(tǒng)設(shè)計(jì), 高穩(wěn)定度Rotor 設(shè)計(jì), 震動值均控制於300 um 以下.l 高潔淨(jìng)設(shè)計(jì),微塵控制於每次運(yùn)轉(zhuǎn)增加量, 0.3um , 30顆以下. 2. 操作流程3. 圖示 4. 規(guī)格l 機(jī)臺內(nèi)皆使用鐵氟龍製DI , N2 控制閥件l 直流式馬達(dá): DC無刷馬達(dá)750Wl 真空負(fù)壓軸封設(shè)計(jì)，隔離槽外污染l 不銹鋼N2過濾器 0.003~0.005μml 氣體加熱器及加熱墊控制乾燥速率l 壓力感測保護(hù)(加熱器空燒保護(hù))l 槽外貼Silicon材質(zhì)加熱墊 x1 片, 220VAC , 300W(溫度開關(guān)90°C OFF 70°C ON)l Viton材質(zhì)充氣式氣囊及槽後密封環(huán),保持室外絕緣l 不銹鋼槽體SS316經(jīng)拋光及電解研磨l 單顆螺絲固定轉(zhuǎn)子，並按客戶需求指定使用訂做l 轉(zhuǎn)子經(jīng)拋光及電解研磨，並做動態(tài)平衡校正l 可選擇指示燈訊及蜂鳴器音樂故障碼功能: 門鎖警告，氣體不足，傳動異常警告 5. 電控系統(tǒng)l 控制器操作介面: 5.7”記憶人機(jī)+ PLC可程式自動化控制器(人機(jī) Touch Screen，整合介面) 。l 軟體功能Ø 編輯/儲存 : 製程/維修/警示/編輯/配方/，皆可從操作螢?zāi)簧闲薷摹?#216; 儲存能力記憶模組...

枚葉式清洗機(jī)-華林科納CSE

發(fā)布時間： 2016 - 03 - 07

枚葉式清洗機(jī)-華林科納CSE南通華林科納半導(dǎo)體CSE-單片枚葉式洗凈裝置的特長：單片式清洗裝置的優(yōu)點(diǎn)（與浸漬.槽式比較）1.晶片表面的微粒數(shù)非常少（到25nm可對應(yīng)）例：附著粒子數(shù)…10個/W以下（0.08UM以上粒子）（參考）槽式200個/W2.藥液純水的消費(fèi)量少藥液…（例）1%DHF的情況 20L/日純水...每處理一枚晶片0.5-1L/分3.小裝置size（根據(jù)每個客戶可以定制）液體濺射（塵埃強(qiáng)制除去）（推薦)清洗方法單片式裝置的Particle再附著問題更多的半導(dǎo)體單片枚葉式濕法腐蝕清洗設(shè)備相關(guān)信息可以關(guān)注華林科納CSE官網(wǎng)（www.hlkncas.com），現(xiàn)在熱線咨詢400-8768-096；18913575037可立即獲取免費(fèi)的半導(dǎo)體清洗解決方案。

自動供酸系統(tǒng)（CDS）-CSE

發(fā)布時間： 2016 - 03 - 07

自動供酸系統(tǒng)（CDS）-南通華林科納CSEChemical Dispense System System 南通華林科納半導(dǎo)體CSE-CDS自動供酸系統(tǒng) 適用對象：HF、HN03、KOH、NH4OH、NaOH、H2SO4、HCL、 H2O2、IPA等主要用途：本設(shè)備主要用于濕法刻蝕清洗等制程工程工序需要的刻蝕液集中進(jìn)行配送，經(jīng)管道至設(shè)備；具有自動化程度高，配比精確，操作簡便等特點(diǎn)；具有良好的耐腐蝕性能?？刂颇Ｊ剑菏謩涌刂颇Ｊ健⒆詣涌刂颇Ｊ皆O(shè)備名稱南通華林科納CSE-CDS自動供酸系統(tǒng)設(shè)備型號CSE-CDS-N1507設(shè)計(jì)基準(zhǔn)1.供液系統(tǒng)（Chemical Dispense System System）簡稱：CDS2. CDS 將設(shè)置于化學(xué)房內(nèi)：酸堿溶液CDS 系統(tǒng)要求放置防腐性的化學(xué)房；3. 設(shè)備材質(zhì)說明(酸堿類):酸堿溶液CDS外構(gòu)采以WPP 10T 板材，內(nèi)部管路及組件采PFA 451 HP 材質(zhì)；4. 系統(tǒng)為采以化學(xué)原液雙桶/單桶20L、200L、1t等方式以Pump 方式運(yùn)送到制程使用點(diǎn)；5. 過濾器：配有10” PFA材質(zhì)過濾器外殼；6. 供液泵：每種化學(xué)液體配有兩臺或者一臺 PTFE材質(zhì)的進(jìn)口隔膜泵；7. Empty Sensor & Level Sensor：酸堿類采用一般型靜電容近接開關(guān)；8. 所有化學(xué)品柜、歧管箱及閥箱均提供泄漏偵測器與警報(bào)功能。CDS系統(tǒng)設(shè)備規(guī)格 1. 系統(tǒng)主要功能概述設(shè)備主要功能：每種化學(xué)液體配兩個桶（自動切換）、配兩臺泵（一用一備）、帶過濾器；系統(tǒng)控制單元：配帶OMRON 8”彩色觸摸屏，OMRON品牌PLC系統(tǒng)；2. 操作模式： CDS 系統(tǒng)皆有PLC 作Unit 內(nèi)部流程控制，操作介面以流程方式執(zhí)行，兼具自動化與親和力。在自動模式情形...

單片清洗機(jī)CSE

發(fā)布時間： 2018 - 01 - 23

單片清洗機(jī)-華林科納CSESingle wafer cleaner system南通華林科納CSE-自動單片式腐蝕清洗機(jī)應(yīng)用于清洗（包括光刻板清洗）刻蝕去膠金屬剝離等；可處理晶圓尺寸2"-12"；可處理晶圓材料：硅砷化鎵磷化銦氮化鎵碳化硅鈮酸鋰鉭酸鋰等；主要應(yīng)用領(lǐng)域：集成電路聲表面波器件微波毫米波器件 MEMS 先進(jìn)封裝等設(shè) 備名稱CSE-單片清洗機(jī)類型單片式適用領(lǐng) 域半導(dǎo)體、太陽能、液晶、MEMS等清洗方式2英寸——12英寸設(shè)備穩(wěn)定性1、≥0.2um顆粒少于10顆2、金屬附著量:3E10 atoms/ cm²3、純水消耗量：1L/min/片4、蝕刻均一性良好（SiO?氧化膜被稀釋HF處理）：≤2%5、干燥時間：≤20S6、藥液回收率：＞95%單片式優(yōu)點(diǎn)1、單片處理時間短（相較于槽式清洗機(jī)）2、節(jié)約成本（藥液循環(huán)利用，消耗量遠(yuǎn)低于槽式）3、良品率高4、有效避免邊緣再附著5、立體層疊式結(jié)構(gòu)，占地面積小更多的單片（枚葉）式清洗相關(guān)設(shè)備可以關(guān)注南通華林科納半導(dǎo)體官網(wǎng)，關(guān)注http://m.j4i44.cn ,400-8768-096，18913575037

氫氟酸HF自動供液系統(tǒng)-CSE

發(fā)布時間： 2017 - 12 - 06

氫氟酸HF自動供液系統(tǒng)-南通華林科納CSEChemical Dispense System System 南通華林科納半導(dǎo)體CSE-氫氟酸供液系統(tǒng) 適用對象：HF、HN03、KOH、NH4OH、NaOH、H2SO4、HCL、 H2O2、IPA等主要用途：本設(shè)備主要用于濕法刻蝕清洗等制程工程工序需要的刻蝕液集中進(jìn)行配送，經(jīng)管道至設(shè)備；具有自動化程度高，配比精確，操作簡便等特點(diǎn)；具有良好的耐腐蝕性能?？刂颇Ｊ剑菏謩涌刂颇Ｊ?、自動控制模式設(shè)備名稱南通華林科納CSE-氫氟酸（HF）供液系統(tǒng)設(shè)備型號CSE-CDS-N2601設(shè)計(jì)基準(zhǔn)1.供液系統(tǒng)（Chemical Dispense System System）簡稱：CDS2. CDS 將設(shè)置于化學(xué)房內(nèi)：酸堿溶液CDS 系統(tǒng)要求放置防腐性的化學(xué)房；3. 設(shè)備材質(zhì)說明(酸堿類):酸堿溶液CDS外構(gòu)采以WPP 10T 板材，內(nèi)部管路及組件采PFA 451 HP 材質(zhì)；4. 系統(tǒng)為采以化學(xué)原液雙桶/單桶20L、200L、1t等方式以Pump 方式運(yùn)送到制程使用點(diǎn)；5. 過濾器：配有10” PFA材質(zhì)過濾器外殼；6. 供液泵：每種化學(xué)液體配有兩臺或者一臺 PTFE材質(zhì)的進(jìn)口隔膜泵；7. Empty Sensor & Level Sensor：酸堿類采用一般型靜電容近接開關(guān)；8. 所有化學(xué)品柜、歧管箱及閥箱均提供泄漏偵測器與警報(bào)功能。CDS系統(tǒng)設(shè)備規(guī)格 1. 系統(tǒng)主要功能概述設(shè)備主要功能：每種化學(xué)液體配兩個桶（自動切換）、配兩臺泵（一用一備）、帶過濾器；系統(tǒng)控制單元：配帶OMRON 8”彩色觸摸屏，OMRON品牌PLC系統(tǒng)；2. 操作模式： CDS 系統(tǒng)皆有PLC 作Unit 內(nèi)部流程控制，操作介面以流程方式執(zhí)行，兼具自動化與親和力。在...

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兆聲清洗機(jī)-CSE

半導(dǎo)體兆聲清洗機(jī)—華林科納CSE Mega sonic cleaning machine南通華林科納CSE-兆聲清洗機(jī) 適用于硅晶片藍(lán)寶石晶片砷化鎵晶片磷化銦晶片碳化硅晶片石英晶片可處理晶片尺寸2"-8"；可處理晶圓材料：硅砷化鎵磷化銦氮化鎵碳化硅鈮酸鋰鉭酸鋰等；主要應(yīng)用領(lǐng)域：半導(dǎo)體太陽能光伏液晶等設(shè)備名稱CSE-兆聲清洗機(jī)類型槽式尺寸(參考)約3500（L）×1350 (W)×2300mm (H)清洗件規(guī)格4” 2籃50片設(shè)備凈重1T運(yùn)行重量1.5T±10%電源380v 50hz 功率70kw槽體尺寸200mm*400mm*260mm槽數(shù)6個操作方式手動/半自動/全自動適用規(guī)格2英寸-8英寸適用領(lǐng)域半導(dǎo)體、太陽能、液晶等設(shè)備穩(wěn)定性1、清洗良品率≥99%2、≥0.2um顆粒少于10顆產(chǎn)品簡介1設(shè)備機(jī)架采用不銹鋼骨架外包PP板，耐酸堿腐蝕；2電氣區(qū)設(shè)置在設(shè)備后上部，與濕區(qū)和管路區(qū)完全隔離；3槽體材料選用耐相應(yīng)溶液腐蝕的材料；4機(jī)械手探入濕區(qū)部分的零部件表面噴氟或套PFA管處理；5設(shè)備排風(fēng)采用頂部百級FFU送新風(fēng)，臺面下抽風(fēng)，每套工藝清洗槽都有自動開閉的槽蓋，槽蓋下有單獨(dú)的抽風(fēng)裝置，排風(fēng)口處設(shè)有自動調(diào)節(jié)風(fēng)門，即上電打開風(fēng)門，斷電關(guān)閉風(fēng)門，具有風(fēng)壓檢測功能，以及氮?dú)?、壓縮空氣壓力報(bào)警功能；6溶液槽中藥液自動供液按設(shè)定好比例混合，并可在工作過程中根據(jù)設(shè)定補(bǔ)液；客戶根據(jù)自身工藝條件自行設(shè)定；7臺面為多孔結(jié)構(gòu)，便于臺面上沖洗水、液的排出；8操作面設(shè)有透明PVC安全門；9設(shè)備設(shè)有漏電、急停、液位、過溫、安全門開、漏液、超時等保護(hù)和報(bào)警裝置，保證設(shè)備的安全可靠；10配備有進(jìn)口PFA，水、氣槍各一。更多半導(dǎo)體兆聲清洗機(jī)設(shè)備（最終...

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全自動濕法去膠清洗機(jī)-CSE

全自動濕法去膠清洗機(jī)-南通華林科納CSE華林科納CSE濕法處理設(shè)備是國內(nèi)最早致力于集成電路濕法設(shè)備的研制單位，多年來與眾多的集成電路生產(chǎn)企業(yè)密切合作，研制開發(fā)出適合于4吋-8吋的全自動系列濕法處理設(shè)備設(shè)備名稱南通華林科納CSE-全自動濕法去膠清洗機(jī)設(shè)備設(shè)備概況尺寸(參考)：約3500（L）*1500(W)*2000(H)（具體尺寸根據(jù)實(shí)際圖紙確定）清洗件規(guī)格：一次性可裝8寸晶片25pcs典型生產(chǎn)節(jié)拍：5～10min/籃（清洗節(jié)拍連續(xù)可調(diào)）門：不銹鋼合頁門+PVC視窗主題構(gòu)造特點(diǎn)設(shè)備由于是在一個腐蝕的環(huán)境，我們設(shè)備的排風(fēng)方式，臺面下抽風(fēng)，每套工藝清洗槽都有自動開閉的槽蓋，槽蓋下有單獨(dú)的抽風(fēng)裝置。設(shè)備結(jié)構(gòu)外型，整機(jī)主要由機(jī)架、工藝槽體、機(jī)械手傳輸系統(tǒng)、排風(fēng)系統(tǒng)、電控系統(tǒng)、水路系統(tǒng)及氣路系統(tǒng)等組成。由于工藝槽內(nèi)藥液腐蝕性強(qiáng)，設(shè)備需要做防腐處理：（1）設(shè)備機(jī)架采用鋼結(jié)構(gòu)骨架包塑；（2）殼體采用鏡面SUS316L不銹鋼焊接，制程區(qū)由耐腐蝕的SUS316L板材組合焊接而成：（3）電氣區(qū)設(shè)置在設(shè)備后上部，與濕區(qū)和管路區(qū)完全隔離；（4）槽體材料選用耐相應(yīng)溶液腐蝕的材料；（5）機(jī)械手探人濕區(qū)部分的零部件表面噴氟或套PFA管處理。應(yīng)用領(lǐng)域集成電路、聲表面波（SAW）器件、微波毫米波器件、MEMS器件、先進(jìn)封裝等設(shè)備制造商南通華林科納半導(dǎo)體設(shè)備有限公司 m.j4i44.cn 400-8768-096 ；18913575037更多全自動濕法去膠清洗機(jī)設(shè)備可以關(guān)注南通華林科納半導(dǎo)體設(shè)備官網(wǎng)m.j4i44.cn；現(xiàn)在咨詢400-8768-096，18913575037可立即免費(fèi)獲取華林科納CSE提供的全自動濕法去膠清洗機(jī)設(shè)備的相關(guān)方案

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最終清洗機(jī)-華林科納CSE

最終清洗機(jī)-華林科納CSE華林科納CSE濕法處理設(shè)備是國內(nèi)最早致力于集成電路濕法設(shè)備的研制單位，多年來與眾多的集成電路生產(chǎn)企業(yè)密切合作，研制開發(fā)出適合于4吋-8吋的全自動系列濕法處理設(shè)備設(shè)備用途: 清洗槽用于6/8吋兼容，集成電路制造工藝的最終清洗。配合LOAD and UNLOAD的上下料，實(shí)現(xiàn)干進(jìn)干出，每批次50枚Cassette Type的高效清洗。共有三種工藝槽，三水槽+一個干燥單元：1個DHF清洗槽、1個OF槽、1個SC-1槽、1個QDR槽、1個SC-2槽、1個QDR槽、1個干燥槽。設(shè)備功能:●Chemical BATH: 自動換酸，自動洗槽，自動槽內(nèi)配比?！馜IW BATH : Pre Flow and After Change Function?！馭/D : 6/8 Inch 自動換位，旋干?！駲C(jī)械手臂:Chuck Open/Close Type，Speed 為可控變動；●Scheduler: 排程計(jì)算，實(shí)現(xiàn)多批次同時清洗，不發(fā)生Process Over Time?！馭afety: Door，TEMP，LEVEL，Exhaust…等等INTERLOCK Safety。設(shè)備工藝流程:●進(jìn)貨區(qū)(LOAD)→DHF(100:1)→OF 槽→SC-1 槽→QDR 槽→SC-2 槽→QDR 槽→S/D 槽→→出貨區(qū)(UNLOAD)●High WPH Type: AWB200-T。雙Cassette 50 枚/槽?！?/8 inch 兼容Cassette Type?！袂懊媸綑C(jī)械手臂: ARM-1、ARM-2、ARM-3 共三套。●機(jī)臺上部設(shè)有高效過濾器（FFU)。工藝技術(shù)指標(biāo):1. 該設(shè)備應(yīng)實(shí)現(xiàn)全自動作業(yè)，可自動過程控制工藝、沖水及干燥全套作業(yè)，并具備自動供液、自動洗槽、SC1-1槽帶有兆聲；可編程選擇工藝槽及工藝時間進(jìn)行清洗。2. 通過DHF/SC...

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晶圓清洗機(jī)-CSE

晶圓清洗機(jī)設(shè)備名稱：晶圓清洗機(jī)-CSE產(chǎn)品特點(diǎn)：? 針對21英寸外徑或15x15英寸的基底? 巨聲環(huán)境清洗艙（可配備去離子水, 清洗刷, 熱去離子水, 高壓去離子水, 熱氮?dú)猓? 化學(xué)注射臂? 帶化學(xué)噴射的可變速清洗刷? 觸屏用戶界面? 手動上下載? 安全鎖和報(bào)警器? 占地尺寸30”D x 26”W 可選配項(xiàng)：? 化學(xué)試劑傳送單元? 白骨化清洗? 臭氧發(fā)生器? 氫化雙氧水發(fā)生器? 高壓雙氧單元? 硫酸氫過氧化物? 紅外加熱? 雙氧水循環(huán)裝置? 機(jī)械手上下載單元? 帶EFEM和SMIF界面的集群系統(tǒng)清洗功能? 晶圓片? 藍(lán)寶石外延片? 晶圓框架上的芯片? 顯示面板? ITO膜顯示材料? 有圖形掩膜和無圖形掩膜? 掩膜坯料? 薄膜式掩膜? 接觸式掩膜光刻處理工藝? SPM剝離? 光刻膠涂膜? 光刻膠剝離工藝刻蝕? 金屬刻蝕（鋁，銅，鉻，鈦）白骨化清洗? 在晶圓片上注射硫酸和雙氧水的混合液? 紅外加熱? 刷洗? 兆聲雙氧水清洗? 熱氮和甩干去膠/剝離工藝? 帶紅外加熱的NMP滴膠? 刷洗? 兆聲雙氧水清洗? 熱氮和甩干CMP溶液清洗? 用刷洗和兆聲清洗去除CMP顆粒? 化學(xué)噴射臂? 化學(xué)噴射罐? 為前面和背面刷洗設(shè)計(jì)的特殊托盤? 可調(diào)速的PVA清洗刷? 可調(diào)的清洗刷/晶圓接觸壓力? 刷式化學(xué)噴射帶膜/不帶膜式掩膜清洗? 全套清洗（無需更換保護(hù)膜）? 全保護(hù)膜? 膜式掩膜清洗工藝 1) 掩膜背面清洗后兆聲雙氧水清洗刷式清洗化學(xué)清洗熱氮甩干 2)熱氮甩干更多半導(dǎo)體設(shè)備可以關(guān)注南通華林科納半導(dǎo)體設(shè)備官網(wǎng)m.j4i44.cn；現(xiàn)在咨詢400-8768-096，18913575037可立即免費(fèi)獲取華林科納CSE提供的設(shè)備相關(guān)方案

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晶片清洗機(jī)-華林科納CSE

晶片清洗機(jī)設(shè)備名稱:晶片清洗機(jī)-華林科納CSE清洗對象:本設(shè)備適用于2″~8″晶片清洗。 ⑴超聲清洗,加熱清洗為單槽定時控制,到時給予結(jié)束提示音。⑵工藝過程:上料→支離子水超聲清洗→去離子水加熱清洗→去離子水沖洗→ 下料本設(shè)備為柜體式,操作面帶有透明門窗。⑴槽體材料為德國進(jìn)口聚丙烯(磁白色PP板),焊口采用SS外包5mm厚德國磁白色PP板,外型美觀實(shí)用。 ⑵設(shè)備超聲,加熱清洗時間由定時器控制。 ⑶加熱槽裝有溫控表(pompon)和傳感器。 ⑷每個清洗槽互不影響,超聲、沖洗清洗槽的上給水(沖洗清洗槽配有熱水)、下排水為手動方式。 ⑸配有可調(diào)節(jié)式的排風(fēng)裝置。 ⑹配有美國進(jìn)口氮?dú)鈬姌尅?#160;⑺電控部分采用密封保護(hù)方式配有緊急停機(jī)及報(bào)警裝置。更多半導(dǎo)體設(shè)備可以關(guān)注南通華林科納半導(dǎo)體設(shè)備官網(wǎng)m.j4i44.cn；現(xiàn)在咨詢400-8768-096，18913575037可立即免費(fèi)獲取華林科納CSE提供的設(shè)備相關(guān)方案

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RCA濕法腐蝕清洗機(jī)設(shè)備-CSE

RCA濕法腐蝕清洗機(jī)設(shè)備——華林科納CSE華林科納CSE濕法處理設(shè)備是國內(nèi)最早致力于集成電路濕法設(shè)備的研制單位，多年來與眾多的集成電路生產(chǎn)企業(yè)密切合作，研制開發(fā)出適合于4吋-8吋的全自動系列濕法處理設(shè)備設(shè) 備名稱南通華林科納CSE-RCA濕法腐蝕清洗機(jī)使用對象硅晶片2-12inch適用領(lǐng) 域半導(dǎo)體、太陽能、液晶、MEMS等設(shè) 備用途硅晶片化學(xué)腐蝕和清洗的設(shè)備主體構(gòu)造特點(diǎn)1. 設(shè)備包括：設(shè)備主體、電氣控制部分、化學(xué)工藝槽、純水清洗槽等；并提供與廠務(wù)供電、供氣、供水、排廢水、排氣系統(tǒng)配套的接口等。2.設(shè)備為半敞開式，主體使用進(jìn)口WPP15和10mm厚板材，結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)充分考慮長期工作在酸腐蝕環(huán)境，堅(jiān)固耐用，雙層防漏，機(jī)臺底盤采用德國產(chǎn)瓷白PP板，熱焊接而成，可長期工作在酸堿腐蝕環(huán)境中3.主體：設(shè)備為半敞開式，主體使用進(jìn)口WPP15和10mm厚板材，結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)充分考慮長期工作在酸腐蝕環(huán)境，堅(jiān)固耐用，雙層防漏，機(jī)臺底盤采用德國產(chǎn)瓷白PP板，熱焊接而成，可長期工作在酸堿腐蝕環(huán)境中；4.骨架：鋼骨架+PP德國勞施領(lǐng)板組合而成，防止外殼銹蝕。5.儲物區(qū)：位于工作臺面左側(cè)，約280mm寬，儲物區(qū)地板有漏液孔和底部支撐；6.安全門：前側(cè)下開透明安全門，腳踏控制；7.工藝槽：模組化設(shè)計(jì)，腐蝕槽、純水沖洗槽放置在一個統(tǒng)一的承漏底盤中。底盤采用滿焊接工藝加工而成，杜絕機(jī)臺的滲漏危險(xiǎn)；8.管路系統(tǒng)：位于設(shè)備下部，所有工藝槽、管路、閥門部分均有清晰的標(biāo)簽注明；藥液管路采用PFA管，純水管路采用白色NPP噴淋管，化學(xué)腐蝕槽廢液、沖洗廢水通過專用管道排放；9.電氣保護(hù)：電器控制、氣路控制和工藝槽控制部份在機(jī)臺頂部電控區(qū)，電氣元件有充分的防護(hù)以免酸霧腐蝕以保障設(shè)備性能運(yùn)行穩(wěn)定可靠；所有可能與酸霧接觸的...

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溝槽腐蝕機(jī)

溝槽腐蝕機(jī)-CSE概述1.1 設(shè)備概況：主要功能：本設(shè)備主要手動搬運(yùn)方式，通過對si片腐蝕、漂洗、等方式進(jìn)行處理，從而達(dá)到一個用戶要求的效果。1.1.1 設(shè)備名稱：溝槽腐蝕機(jī)1.1.2 設(shè)備型號：CSE-SC-N6011.1.3 整機(jī)尺寸(參考)：約2000mm（L）×1400mm(W)×2000mm(H)；1.1.4 被清洗硅片尺寸：5寸/6寸1.1.5 設(shè)備形式:室內(nèi)放置型;1.1.6 操作形式：手動1.2 設(shè)備組成該設(shè)備主要由清洗部分、抽風(fēng)系統(tǒng)及電控部分組成設(shè)備工藝走向：參照本方案臺面布局圖1.3 設(shè)備描述●此裝置是一個半自動的處理設(shè)備。●8.0英寸PROFACE 人機(jī)界面顯示 / 檢測 / 操作●主體材料：10mmPP板，優(yōu)質(zhì)不銹鋼骨架，外包3mmPP板防腐；●化學(xué)槽槽體材料：德國勞士領(lǐng) 10mm PVDF板；●純水槽槽體材料：德國勞士領(lǐng) 10mm NPP板；●臺面板為10mm PP板（帶有菱形漏液孔）；●DIW主管路及構(gòu)件采用日本進(jìn)口clean-PVC管材，支管路及閥件采用PFA材質(zhì)，需滿足18M去離子水水質(zhì)要求；酸堿管路材質(zhì)為進(jìn)口PFA/PVDF；●采用國際標(biāo)準(zhǔn)生產(chǎn)加工，焊接組裝均在萬級凈化間內(nèi)完成●排風(fēng)：位于機(jī)臺后下部●工作照明：上方防酸型白光照明●歐姆龍/三菱 PLC控制?！癜踩紤]：1. 設(shè)有EMO(急停裝置)， 2. 強(qiáng)電弱點(diǎn)隔離3. 所有電磁閥均高于工作槽體工作液面4. 電控箱正壓裝置（CDA Purge）5. 設(shè)備三層防漏樓盤傾斜漏液報(bào)警設(shè)備整體置于防漏托盤內(nèi)6. 排放管路加過濾裝置7 排液按鈕具有連鎖功能。啟動排液時，同時切斷泵啟動。8 槽內(nèi)配液位開關(guān)，無液不循環(huán)。更多半導(dǎo)體設(shè)備可以關(guān)注南通華林科納半導(dǎo)體設(shè)備官網(wǎng)m.j4i44.cn；現(xiàn)在咨...

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陶瓷盤清洗機(jī)-CSE

陶瓷盤清洗機(jī)-CSE設(shè)備名稱：陶瓷盤清洗機(jī)-華林科納CSE設(shè)備外型結(jié)構(gòu)及主要參數(shù) 控制模式: 手動控制模式自動控制模式。清洗對象：陶瓷盤設(shè)備形式: 室內(nèi)放置型。尺寸(參考，詳見圖紙，含地腳)：3000 mm(L)× 1500 mm(W)× 2200 mm(H)。機(jī)臺總體結(jié)構(gòu)暫定分為兩部分，機(jī)械運(yùn)行機(jī)構(gòu)裝置與機(jī)臺前方；機(jī)臺前方為清洗工作區(qū)域及機(jī)械行走區(qū)，機(jī)臺后上方為電器和氣路布置區(qū)域，后下方為液路布置區(qū)域。更多半導(dǎo)體設(shè)備可以關(guān)注南通華林科納半導(dǎo)體設(shè)備官網(wǎng)m.j4i44.cn；現(xiàn)在咨詢400-8768-096，18913575037，可立即免費(fèi)獲取華林科納CSE提供的設(shè)備相關(guān)方案

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兆聲波清洗機(jī)-CSE

兆聲波清洗機(jī)—華林科納CSE Mega sonic cleaning machine南通華林科納CSE-兆聲波清洗機(jī) 適用于硅晶片藍(lán)寶石晶片砷化鎵晶片磷化銦晶片碳化硅晶片石英晶片可處理晶片尺寸2"-8"；可處理晶圓材料：硅砷化鎵磷化銦氮化鎵碳化硅鈮酸鋰鉭酸鋰等；主要應(yīng)用領(lǐng)域：半導(dǎo)體太陽能光伏液晶等設(shè)備名稱CSE-兆聲波清洗機(jī)類型槽式尺寸(參考)約3500（L）×1350 (W)×2300mm (H)清洗件規(guī)格4” 2籃50片設(shè)備凈重1T運(yùn)行重量1.5T±10%電源380v 50hz 功率70kw槽體尺寸200mm*400mm*260mm槽數(shù)6個操作方式手動/半自動/全自動適用規(guī)格2英寸-8英寸適用領(lǐng)域半導(dǎo)體、太陽能、液晶等設(shè)備穩(wěn)定性1、清洗良品率≥99%2、≥0.2um顆粒少于10顆產(chǎn)品簡介1設(shè)備機(jī)架采用不銹鋼骨架外包PP板，耐酸堿腐蝕；2電氣區(qū)設(shè)置在設(shè)備后上部，與濕區(qū)和管路區(qū)完全隔離；3槽體材料選用耐相應(yīng)溶液腐蝕的材料；4機(jī)械手探入濕區(qū)部分的零部件表面噴氟或套PFA管處理；5設(shè)備排風(fēng)采用頂部百級FFU送新風(fēng)，臺面下抽風(fēng)，每套工藝清洗槽都有自動開閉的槽蓋，槽蓋下有單獨(dú)的抽風(fēng)裝置，排風(fēng)口處設(shè)有自動調(diào)節(jié)風(fēng)門，即上電打開風(fēng)門，斷電關(guān)閉風(fēng)門，具有風(fēng)壓檢測功能，以及氮?dú)?、壓縮空氣壓力報(bào)警功能；6溶液槽中藥液自動供液按設(shè)定好比例混合，并可在工作過程中根據(jù)設(shè)定補(bǔ)液；客戶根據(jù)自身工藝條件自行設(shè)定；7臺面為多孔結(jié)構(gòu)，便于臺面上沖洗水、液的排出；8操作面設(shè)有透明PVC安全門；9設(shè)備設(shè)有漏電、急停、液位、過溫、安全門開、漏液、超時等保護(hù)和報(bào)警裝置，保證設(shè)備的安全可靠；10配備有進(jìn)口PFA，水、氣槍各一。更多半導(dǎo)體兆聲清洗...

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酸堿腐蝕機(jī)

2設(shè)備構(gòu)成及詳細(xì)技術(shù)說明2.1工藝說明 2.2.臺面結(jié)構(gòu)圖如下 3.設(shè)備說明3.1 排風(fēng)系統(tǒng)?●排風(fēng)裝置（排風(fēng)壓力、風(fēng)量根據(jù)實(shí)際情況或客戶要求設(shè)計(jì)）將設(shè)備內(nèi)揮發(fā)的有毒氣體抽到車間排風(fēng)管道或戶外（室外排放遵守國家環(huán)保要求），避免擴(kuò)散到室內(nèi)；?●排風(fēng)通道內(nèi)設(shè)有風(fēng)量導(dǎo)流板，從而使排風(fēng)效果達(dá)到最佳；?●本體頂部后方自帶強(qiáng)力抽風(fēng)1個風(fēng)道口裝置(每個藥劑槽對應(yīng)一個)，排風(fēng)口直徑大于或等于 200mm 與本體焊成一體；?●排風(fēng)口處設(shè)有手動調(diào)節(jié)風(fēng)門，操作人員可根據(jù)情況及時調(diào)節(jié)排風(fēng)量；3.2設(shè)備防護(hù)門：?●本體前方安裝有防護(hù)隔離門，隔離門采用透明PVC板制成，前門可以輕松開合，在清洗過程中，隔離門關(guān)閉，以盡量改善工作環(huán)境并減小對人體的傷害. ?●形式:上下推拉門。3.3 給排水/廢液系統(tǒng)?●給水管路為一路去離子水；?●給排水排廢接頭均為活性連接；?●排放方式均采用氣動控制的方式來保證安全3.4 電氣控制系統(tǒng)?●采用優(yōu)質(zhì)PLC可編程控制器控制全操作過程， ?●人機(jī)界面為觸摸屏，接口中有手動操作、故障報(bào)警、安全保護(hù)等功能，各工作位過程完成提前提示報(bào)警，觸摸屏選用優(yōu)質(zhì)產(chǎn)品；?●觸摸屏加鎖定，以防非授權(quán)人員修改或設(shè)定參數(shù)；?●所有電控部分需獨(dú)立封閉，帶抽風(fēng)系統(tǒng)，獨(dú)立的配電柜?●設(shè)備照明：設(shè)備其它部位--低電壓燈，根據(jù)工作需要可控照明；?●設(shè)備整體采取人性化設(shè)計(jì)，方便操作；并裝有漏電保護(hù)和聲光報(bào)警提示裝置，保證性能安全可靠；電控部分導(dǎo)線采用耐高溫、耐腐蝕的專用導(dǎo)線，電氣控制部分內(nèi)部還通有壓縮空氣保護(hù)，可防水耐腐蝕；?●設(shè)備所有處于腐蝕腔中的線纜均通過PE管進(jìn)行保護(hù)，免受腐蝕；?●設(shè)備具有良好的接地裝置；

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