自動供液系統(tǒng)（CDS）-華林科納（江蘇）CSEChemical Dispense System System 華林科納（江蘇）半導(dǎo)體CSE-CDS自動供液系統(tǒng) 適用對象：HF、HN03、KOH、NH4OH、NaOH、H2SO4、HCL、 H2O2、IPA等主要用途：本設(shè)備主要用于濕法刻蝕清洗等制程工程工序需要的刻蝕液集中進(jìn)行配送，經(jīng)管道至設(shè)備；具有自動化程度高，配比精確，操作簡便等特點；具有良好的耐腐蝕性能?？刂颇Ｊ剑菏謩涌刂颇Ｊ健⒆詣涌刂颇Ｊ皆O(shè)備名稱華林科納（江蘇）CSE-CDS自動供液系統(tǒng)設(shè)備型號CSE-CDS-N2601設(shè)計基準(zhǔn)1.供液系統(tǒng)（Chemical Dispense System System）簡稱：CDS2. CDS 將設(shè)置于化學(xué)房內(nèi)：酸堿溶液CDS 系統(tǒng)要求放置防腐性的化學(xué)房；3. 設(shè)備材質(zhì)說明(酸堿類):酸堿溶液CDS外構(gòu)采以WPP 10T 板材，內(nèi)部管路及組件采PFA 451 HP 材質(zhì)；4. 系統(tǒng)為采以化學(xué)原液 雙桶/單桶20L、200L、1t等方式以Pump 方式運送到制程使用點；5. 過濾器：配有10” PFA材質(zhì)過濾器外殼；6. 供液泵：每種化學(xué)液體配有兩臺或者一臺 PTFE材質(zhì)的進(jìn)口隔膜泵；7. Empty Sensor & Level Sensor：酸堿類采用一般型靜電容近接開關(guān)；8. 所有化學(xué)品柜、歧管箱及閥箱均提供泄漏偵測器與警報功能。CDS系統(tǒng)設(shè)備規(guī)格 1. 系統(tǒng)主要功能概述設(shè)備主要功能：每種化學(xué)液體配兩個桶（自動切換）、配兩臺泵（一用一備）、帶過濾器；系統(tǒng)控制單元：配帶OMRON 8”彩色觸摸屏，OMRON品牌PLC系統(tǒng)；2. 操作模式： CDS 系統(tǒng)皆有PLC 作Unit 內(nèi)部流程控制，操作介面以流程方式執(zhí)行，兼具自動化與親和力。在...
設(shè)備名稱：晶棒腐蝕機---CSE產(chǎn)品描述： ●此設(shè)備自動化程度高,腐蝕清洗裝置主要由水平通過式腐蝕清洗主體(槽體部分/管路部分等),移動機械傳送裝置,CDS系統(tǒng)，抽風(fēng)系統(tǒng),電控及操作臺等部分組成; ●進(jìn)口優(yōu)質(zhì)透明PVC活動門（對開/推拉式），保證設(shè)備外部環(huán)境符合勞動保護(hù)的相關(guān)標(biāo)準(zhǔn)，以保證設(shè)備操作人員及其周圍工作人員的身體健康; ●機械臂定位精度高; ●整體設(shè)備腐蝕漂洗能力強,性能穩(wěn)定,安全可靠; ●設(shè)備成本合理,自動化程度高,使用成本低;技術(shù)先進(jìn),結(jié)構(gòu)合理,適宜生產(chǎn)線上大批次操作. ●非標(biāo)設(shè)備，根據(jù)客戶要求具體定制，歡迎詳細(xì)咨詢！更多半導(dǎo)體清洗設(shè)備相關(guān)資訊可以關(guān)注華林科納CSE官網(wǎng)（www.hlcas.com），現(xiàn)在熱線咨詢400-8768-096可立即獲取免費的半導(dǎo)體清洗解決方案。
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2設(shè)備構(gòu)成及詳細(xì)技術(shù)說明2.1工藝說明 2.2.臺面結(jié)構(gòu)圖如下 3.設(shè)備說明3.1 排風(fēng)系統(tǒng)?●排風(fēng)裝置（排風(fēng)壓力、風(fēng)量根據(jù)實際情況或客戶要求設(shè)計）將設(shè)備內(nèi)揮發(fā)的有毒氣體抽到車間排風(fēng)管道或戶外（室外排放遵守國家環(huán)保要求），避免擴(kuò)散到室內(nèi)；?●排風(fēng)通道內(nèi)設(shè)有風(fēng)量導(dǎo)流板，從而使排風(fēng)效果達(dá)到最佳；?●本體頂部后方自帶強力抽風(fēng)1個風(fēng)道口裝置(每個藥劑槽對應(yīng)一個)，排風(fēng)口直徑大于或等于 200mm 與本體焊成一體；?●排風(fēng)口處設(shè)有手動調(diào)節(jié)風(fēng)門，操作人員可根據(jù)情況及時調(diào)節(jié)排風(fēng)量；3.2設(shè)備防護(hù)門：?●本體前方安裝有防護(hù)隔離門，隔離門采用透明PVC板制成，前門可以輕松開合，在清洗過程中，隔離門關(guān)閉，以盡量改善工作環(huán)境并減小對人體的傷害. ?●形式:上下推拉門。3.3 給排水/廢液系統(tǒng)?●給水管路為一路去離子水；?●給排水排廢接頭均為活性連接；?●排放方式均采用氣動控制的方式來保證安全3.4 電氣控制系統(tǒng)?●采用優(yōu)質(zhì)PLC可編程控制器控制全操作過程， ?●人機界面為觸摸屏，接口中有手動操作、故障報警、安全保護(hù)等功能，各工作位過程完成提前提示報警，觸摸屏選用優(yōu)質(zhì)產(chǎn)品；?●觸摸屏加鎖定，以防非授權(quán)人員修改或設(shè)定參數(shù)；?●所有電控部分需獨立封閉，帶抽風(fēng)系統(tǒng)，獨立的配電柜?●設(shè)備照明：設(shè)備其它部位--低電壓燈，根據(jù)工作需要可控照明；?●設(shè)備整體采取人性化設(shè)計，方便操作；并裝有漏電保護(hù)和聲光報警提示裝置，保證性能安全可靠；電控部分導(dǎo)線采用耐高溫、耐腐蝕的專用導(dǎo)線，電氣控制部分內(nèi)部還通有壓縮空氣保護(hù)，可防水耐腐蝕；?●設(shè)備所有處于腐蝕腔中的線纜均通過PE管進(jìn)行保護(hù)，免受腐蝕；?●設(shè)備具有良好的接地裝置；
石英清洗機-CSE設(shè)備名稱：石英清洗機-CSE產(chǎn)品特點：·適用石英爐管、石英鐘罩、石英件等的清洗·槽體材質(zhì)為進(jìn)口NPP，單槽清洗多槽清洗可選·手動、半自動、自動可選。·設(shè)備可裝配爐管旋轉(zhuǎn)裝置、內(nèi)部鼓泡及沖洗、機械手、排風(fēng)系統(tǒng)、安全防護(hù)門、漏液檢測等。·根據(jù)爐管/鐘罩規(guī)格定制。更多半導(dǎo)體設(shè)備可以關(guān)注華林科納（江蘇）半導(dǎo)體設(shè)備官網(wǎng)m.j4i44.cn；現(xiàn)在咨詢400-8768-096，18913575037，可立即免費獲取華林科納CSE提供的設(shè)備相關(guān)方案
RCA標(biāo)準(zhǔn)清洗法是1965年由Kern和Puotinen 等人在N.J.Princeton的RCA實驗室首創(chuàng)的，并由此而得名。RCA清洗是一種典型的、普遍使用的濕式化學(xué)清洗法，是去除硅片表面各類玷污的有效方法，所用清洗裝置大多是多槽處理式清洗系統(tǒng)。 該清洗系統(tǒng)主要包括以下幾種藥液：（1）SPM：H2SO4 /H2O2 120～150℃ SPM具有很高的氧化能力，可將金屬氧化后溶于清洗液中，并能把有機物氧化生成CO 2和H2O。用SPM清洗硅片可去除硅片表面的重有機沾污和部分金屬，但是當(dāng)有機物沾污特別嚴(yán)重時會使有機物碳化而難以去除。（2）HF(DHF)：HF(DHF) 20～25℃ DHF可以去除硅片表面的自然氧化膜，因此，附著在自然氧化膜上的金屬將被溶解到清洗液中，同時DHF抑制了氧化膜的形成。因此可以很容易地去除硅片表面的Al，F(xiàn)e，Zn，Ni等金屬，DHF也可以去除附著在自然氧化膜上的金屬氫氧化物。用DHF清洗時，在自然氧化膜被腐蝕掉時，硅片表面的硅幾乎不被腐蝕。（3）APM (SC-1）：NH4OH/H2O2 /H2O 30～80℃ 由于H2O2的作用，硅片表面有一層自然氧化膜(SiO2)，呈親水性，硅片表面和粒子之間可被清洗液浸透。由于硅片表面的自然氧化層與硅片表面的Si被NH 4OH腐蝕，因此附著在硅片表面的顆粒便落入清洗液中，從而達(dá)到去除粒子的目的。在 NH4OH腐蝕硅片表面的同時，H2O 2又在氧化硅片表面形成新的氧化膜。（4）HPM (SC-2)：HCl/H2O2/H2 O 65～85℃ 用于去除硅片表面的鈉、鐵、鎂等金屬沾污。在室溫下HPM就能除去Fe和Zn。CSE清洗基本步驟：化學(xué)清洗—漂洗—烘干。硅片經(jīng)過不同工序加工后，其表面已受到嚴(yán)重沾污，一般硅片表面沾污大致可分在三類：1、有機雜質(zhì)沾污：可通過有機試劑的溶解作用，結(jié)合超聲波清洗技術(shù)來去除。...
設(shè)備概況：（僅做參考）主要功能：本設(shè)備主要手動搬運方式，通過對硅片腐蝕、漂洗、等方式進(jìn)行處理，從而達(dá)到一個用戶要求的效果。設(shè)備名稱：KOH Etch刻蝕清洗機 設(shè)備型號：CSE-SC-NZD254整機尺寸(參考)：自動設(shè)備約2500mm（L）×1800mm(W)×2400mm(H)；被清洗硅片尺寸： 2--6寸（25片/籃）設(shè)備形式:室內(nèi)放置型;操作形式：手動各槽位主要技術(shù)工藝：設(shè)備組成：該設(shè)備主要由清洗部分、抽風(fēng)系統(tǒng)及電控部分組成設(shè)備走向：方案圖按 “左進(jìn)右出”方式，另可按要求設(shè)計“右進(jìn)左出”方式；設(shè)備描述：此裝置是一個全自動的處理設(shè)備。8.0英寸大型觸摸屏(PROFACE/OMRON)顯示 / 檢測 / 操作每個槽前上方對應(yīng)操作按鈕，與觸摸屏互相配合主體材料：德國進(jìn)口10mmPP板，優(yōu)質(zhì)不銹鋼骨架，外包3mmPP板防腐；臺面板為德國10mm PP板；DIW管路及構(gòu)件采用日本進(jìn)口clean-PVC管材，需滿足18M去離子水水質(zhì)要求，酸堿管路材質(zhì)為進(jìn)口PFA/PVDF；采用國際標(biāo)準(zhǔn)生產(chǎn)加工，焊接組裝均在萬級凈化間內(nèi)完成;排風(fēng)：位于機臺后上部工作照明：上方防酸照明三菱、歐姆龍 PLC控制。安全考慮：設(shè)有EMO(急停裝置)， 強電弱點隔離所有電磁閥均高于工作槽體工作液面電控箱正壓裝置（CDA Purge）設(shè)備三層防漏 樓盤傾斜 漏液報警 設(shè)備整體置于防漏托盤內(nèi)排放管路加過濾裝置所有槽體折彎成型，可有效避免死角顆粒;更多化學(xué)品相關(guān)濕法腐蝕相關(guān)設(shè)備（KOH腐蝕刻蝕機、RCA清洗機、去膠機、外延片清洗機、酸堿腐蝕機、顯影機等）以及干燥設(shè)備（馬蘭戈尼干燥機Marangoni、單腔...